PHOT’Innov-La Mesure d’épaisseur de materiaux opaques

Epaisseur materiaux opaques

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Principe interférométrique appliqué à la mesure d’épaisseur de matériaux transparents à l’infrarouge

Des matériaux opaques visuellement comme certains plastiques ou le silicium peuvent être mesurés en utilisant une source et un photo-détecteur infrarouge. La figure d’interférences spectrale du faisceau lumineux réfléchi par deux (ou plusieurs) surfaces est utilisée pour déterminer une épaisseur. Dans le cas de dépôts multicouches, les épaisseurs de chaque couche ainsi que l’épaisseur totale peuvent être déterminées. La sonde optique ne contient ni électronique ni pièces en mouvement, ce qui lui confère une grande robustesse pour les applications en ligne de production ou encore dans les environnements sévères.

Ce qu’il faut retenir…

  • Plusieurs sources SLD disponibles
  • Epaisseur mesurable de 4 μm à 15 mm
  • Indépendant de la couleur et de la température
  • Vitesse de mesure jusqu’à 70kHz
  • Capteurs dédiés pour les wafers rugueux, dopés et ultrafin.
  • Facile à intégrer en ligne de production ou avec d’autres capteurs
  • Excellente résolution latérale
  • Systèmes multicanaux disponibles
  • CHRocodile IT, DW, LR et TW 

Mesure d’épaisseur en vis-à-vis de matériaux non transparents

 

Le principe confocal chromatique très polyvalent peut être utilisé pour mesurer la distance sur presque tous les types de surfaces. En disposant deux sondes en vis-à-vis autour de l’échantillon et en synchronisant ces deux mesures, il est possible de mesurer l’épaisseur des matériaux qui sont totalement opaques, comme les métaux ou les wafers opaques.

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